产品与服务

三大涂胶显影设备系列,覆盖从前道晶圆制造到先进封装的全场景需求,并配套全生命周期技术服务。

涂胶显影设备系列

旗舰机型

MRG-3000 系列

12" Inline Coater & Developer

面向 12 英寸集成电路产线的全自动涂胶显影机,支持 KrF / ArF 光刻工艺, 可与主流光刻机 Inline 对接,实现 Track-Litho 一体化作业。

晶圆尺寸
12 英寸
产能
≥ 180 WPH
膜厚均匀性
≤ ±1%
  • 最多 8 个工艺模块,支持双层胶工艺
  • 符合 GEM300 标准,支持 SECS/GEM 通讯
  • 颗粒控制 ≤ 10 pcs @ ≥ 0.09 μm
主力机型

MRG-2000 系列

8" Coater & Developer

8 英寸紧凑型涂胶显影机,双腔并行架构兼顾产能与占地效率, 广泛适用于功率器件、MEMS、模拟芯片等产线。

晶圆尺寸
4-8 英寸
产能
≥ 150 WPH
膜厚均匀性
≤ ±1.5%
  • 兼容 4 / 5 / 6 / 8 英寸多尺寸快速切换
  • 支持 i-line / KrF 工艺
  • 可选 Offline 独立运行或 Inline 对接
先进封装

MRG-P800 系列

Packaging Coater & Developer

专为先进封装设计的厚胶涂布显影设备,支持 RDL、Bumping、 Fan-out 及 2.5D / 3D 封装工艺。

基板尺寸
≤ 600mm
胶厚范围
1-120 μm
均匀性
≤ ±3%
  • 兼容晶圆级与面板级封装基板
  • 厚胶喷涂 / 旋涂双工艺平台
  • 支持翘曲基板自适应吸附

关键技术参数

三大系列核心指标一览,详细规格书请联系销售团队获取。

参数项 MRG-3000 MRG-2000 MRG-P800
适用场景 12" IC 前道 4-8" 功率 / MEMS 先进封装
产能 (WPH) ≥ 180 ≥ 150 ≥ 60
膜厚均匀性 ≤ ±1.0% ≤ ±1.5% ≤ ±3.0%
CD 均匀性 ≤ 1.5% ≤ 2.0% ≤ 3.0%
热板温度均匀性 ≤ ±0.3 ℃ ≤ ±0.5 ℃ ≤ ±1.0 ℃
颗粒控制 ≤ 10 @ 0.09 μm ≤ 20 @ 0.12 μm ≤ 50 @ 0.5 μm
光刻机对接 Inline(KrF / ArF) Inline / Offline Offline
通讯标准 SECS/GEM, GEM300 SECS/GEM SECS/GEM

全生命周期服务体系

从工艺开发到量产护航,MRG 服务团队与客户产线始终并肩。

工艺开发

20,000 ㎡ Demo 实验室支持打样验证,协助客户完成胶材选型与工艺窗口开发。

装机调试

资深 FSE 团队驻场安装调试,标准化 Move-in 流程,最快 2 周完成验收交付。

快速响应

7×24 小时远程支持,国内 4 小时到场响应,海外 48 小时抵达现场。

备件维保

常备 3,000+ 种原厂备件,提供年度维保合约与设备健康度巡检服务。

需要详细规格书或工艺评估?

留下您的产线需求,MRG 工艺工程师将在 1 个工作日内与您联系。